Badania materiałowe

Dwuwiązkowy implantator jonów

Opis

Zakład Materiałów Magnetycznych i Nanostruktur dysponuje jedynym w Polsce dwuwiązkowym implantatorem jonów. Urządzenie to umożliwia stosowanie metod jonowych do konstytuowania warstw wierzchnich ciał stałych oraz do formowania złożonych powłok ciał stałych. W szczególności do modyfikacji składu pierwiastkowego oraz struktury warstw wierzchnich ciał stałych można stosować klasyczną implantację jonową. Do formowania powłok oraz do modyfikacji warstw wierzchniej można więc stosować takie metody jak:

  • implantacja jonowa
  • mixing jonowy
  • IBSD - Ion Beam Sputter Deposition
  • IBAD - Ion Beam Assisted Deposition

Posiadane źródła jonów umożliwiają implantację jonów praktycznie wszystkich (poza promieniotwórczymi) izotopów. Możliwe energie jonów od 15 keV do 45 keV dla jednokrotnie naładowanych jonów. Energia implantacji w szczególnych przypadkach może być zwiększona do 75 keV lub obniżona do 5 keV w wyniku zastosowania postakceleracji.

Z zastosowaniem wiązek wielokrotnie naładowanych jonów możliwa jest implantacja z energiami jonów zwiększonymi przez krotność jonizacji.

Laboratorium oferuje w szczególności formowanie dwuwiązkową metodą IBAD powłok na bazie węgla, tytanu oraz krzemu.

Dodatkowe informacje

Wykonanie

Zakład Materiałów Magnetycznych i Nanostruktur (NZ34)

Kontakt

dr hab. Bogusław Rajchel
tel.: 12 662 8374, 12 662 8350, 12 662 8373
e-mail: Boguslaw.Rajchel@ifj.edu.pl